1月24日，英国牛津仪器（Oxford Instruments）宣布，公司已向英国知名Micro LED 厂商供应原子层沉积 (ALD) 设备，以支持最新AR/VR设备和显示产品的生产。牛津仪器表示，ALD设备可为高密度、极高亮度、低功耗和高帧率RGB 像素阵列沉积高K介电超薄膜，满足XR设备、智能穿戴设备的应用需求。
图片来源：牛津仪器
资料显示，牛津仪器业务主要分为纳米分析设备、工业分析设备和服务三大部分，其产品包括沉积与刻蚀设备、光学成像设备、低温系统、电子显微镜、核磁共振设备等，可用于半导体、微电子、量子科技、光子学、锂电池、能源生产与储存等领域。
此前，牛津仪器曾与台工研院多次达成合作，在HBLED、MEMS、Micro LED、硅光子学、奈米分析等领域获得丰富成果。
据悉，原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处，该技术目前主要应用于半导体和纳米技术领域。
在第14届国际氮化物半导体会议 (ICNS 2023) 上，众多专家讲者强调了等离子原子层沉积技术在防护Micro LED生产损伤方面的优势，并证明了等离子体原子层沉积技术可显着提高Micro LED芯片的外部量子效率，因此原子层沉积技术是未来微型光发射器发展的关键。
牛津仪器表示，公司的低损伤等离子原子层沉积技术获得了市场关注。公司的等离子 ALD高K钝化解决方案，针对具有较小活性区域的Micro LED微芯片进行了优化，并且方案可将Micro LED外部量子效率翻倍。（LEDinside Irving编译）
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